Очищающая пенка для умывания Skin1004 Madagascar Centella Ampoule Foam 20 мл

285 

1 в наличии

Описание

Очищающая пенка Skin1004 Madagascar Centella Ampoule Foam — это высокоэффективное средство для ежедневного ухода разработанное на основе концентрированного экстракта мадагаскарской центеллы азиатской. Пенка имеет нейтральный уровень pH 5 что максимально приближен к естественному балансу кожи. Это позволяет деликатно очищать эпидермис и поры от загрязнений и излишков себума без нарушения защитного барьера.

Благодаря содержанию ценного комплекса центеллозидов средство активно успокаивает раздражения, способствует заживлению микротрещин и стимулирует внутренние процессы регенерации. Активный компонент Sodium Cocoyl Isethionate обеспечивает мягкое очищение без ощущения стянутости или сухости. Регулярное использование пенки помогает восстановить здоровый гидробаланс и улучшить микроциркуляцию кожи делая лицо свежим и ухоженным.

Основные преимущества:

  • Деликатное очищение: Нейтральный уровень pH бережно удаляет загрязнения и себум.

  • Успокаивающее действие: Экстракт центеллы снимает воспаления и раздражения.

  • Регенерация: Способствует быстрому заживлению кожи и восстановлению ее защитных функций.

  • Увлажнение: Поддерживает гидробаланс благодаря гиалуроновой кислоте и растительным экстрактам.

  • Удобный формат: Компактный тюбик 20 мл идеально подходит для путешествий или первого знакомства с продуктом.

Способ применения:

Небольшое количество средства выдавить на влажные ладони и слегка вспенить. Нанести пену на влажную кожу лица и мягко массировать в течение 2-3 минут. Тщательно смыть теплой водой.

Технические характеристики:

  • Тип: Очищающая пенка для умывания

  • Объем: 20 мл

  • Ключевые ингредиенты: Экстракт центеллы азиатской (30%)

  • Уровень pH: 5

  • Особенности: Не раздражает кожу подходит для ежедневного применения

Отзывы

Отзывов пока нет.

Будьте первым, кто оставил отзыв на “Очищающая пенка для умывания Skin1004 Madagascar Centella Ampoule Foam 20 мл”

Ваш адрес email не будет опубликован. Обязательные поля помечены *